光譜分析儀由一個(gè)入射狹縫，一個(gè)色散系統，一個(gè)成像系統和一個(gè)或多個(gè)出射狹縫組成。集信息采集，處理，存儲諸功能于一體，它己被廣泛使用于幾乎所有的光譜測量，分析及研究工作中，特別適應于對微弱信號，瞬變信號的檢測。在了解了光譜分析儀的投射測定的相關(guān)內容后，我們再來(lái)看看影響光譜分析儀測量的一些內在因素。
1.物理干擾
物理干擾是指在樣品轉移和蒸發(fā)過(guò)程中任何物理因素變化引起的干擾效應。屬于此類(lèi)干擾的因素包括：測試溶液的粘度、溶劑的蒸氣壓、霧化氣體的壓力等。物理干擾是非選擇性干擾，對樣品元素的影響基本相似。
制備類(lèi)似于測試樣品的標準樣品是消除物理干擾的常用方法。當樣品的成分未知或無(wú)法匹配時(shí)，可以使用標準添加方法或稀釋方法來(lái)減少和消除物理干擾。
2.化學(xué)干擾
化學(xué)干擾是指由測試元件與其他組件之間的化學(xué)相互作用引起的干擾效應。它主要影響測試元件的原子化效率，并且是原子吸收分光光度法中干擾的主要來(lái)源。這是由于在液相或氣相中被測元素的原子與干擾物質(zhì)的組成之間形成了熱力學(xué)更穩定的化合物，這影響了被測元素化合物的離解和原子化。
消除化學(xué)干擾的方法包括：化學(xué)分離;使用高溫火焰;加入釋放劑和保護劑等。
3.電離干擾
高溫下原子的電離會(huì )降低基態(tài)原子的濃度，并導致原子吸收信號降低，這種干擾稱(chēng)為電離干擾。電離效應隨溫度和電離平衡常數的增加而增加，而隨被測元素濃度的增加而減小。添加更容易電離的堿金屬元素可以有效消除電離干擾。
4.光譜干擾
光譜干擾包括譜線(xiàn)重疊、光譜通帶內存在非吸收線(xiàn)、原子化池內的直流發(fā)射、分子吸收、光散射等。當采用銳線(xiàn)光源和交流調制技術(shù)時(shí)，前3種因素一般可以不予考慮，主要考慮分子吸收和光散射地影響，它們是形成光譜背景的主要因素。
5.分子吸收干擾
分子吸收干擾是指由原子化過(guò)程中產(chǎn)生的氣體分子，氧化物和鹽分子吸收輻射引起的干擾。光散射是指在霧化過(guò)程中生成的固體顆粒會(huì )散射光，從而使散射光偏離光路，并且無(wú)法被檢測器檢測到，從而導致高吸收值。
